Micro Prism Grid Co., Ltd.の研究開発部門は、量子コンピューティング応用からナノスケール統合まで、精密デジタルシステムの根幹をなす先端技術の研究・開発を継続的に推進しています。
当社の精密製造研究ラボは、マイクロメートル単位の精度を要するコンポーネント製造プロセスの研究拠点です。最先端のCNC加工設備、電子顕微鏡、クリーンルーム環境を完備し、量産技術への応用を見据えた基礎研究から応用開発まで一貫して行っています。
特に光学系コンポーネントの製造精度向上に注力しており、独自の表面処理技術と材料科学研究により、従来比40%の精度向上を達成しました。この技術はMPGプリズムセンサーシリーズの製造工程に直接反映されています。
2025年に増設した第2製造研究棟では、新素材の評価設備と、AIによる品質管理システムの実証実験環境を整備。次世代センサーデバイスの開発加速を目指しています。
東京・芝浦の本社に隣接するコアR&Dラボは、当社の技術革新の中枢です。データサイエンス、光学工学、電子回路設計、AIアルゴリズム開発の4チームが協働し、製品開発の上流から量産化支援まで担当しています。
年間R&D投資額は売上高の約18%と、業界平均を大きく上回る水準を維持しています。この継続的な投資が、競合他社には真似できない独自技術の蓄積と、特許ポートフォリオの充実をもたらしています。
2026年度は特に量子センシング技術の応用研究と、エッジAI処理の実装最適化に集中的にリソースを投入。産業IoTの次世代アーキテクチャ実現に向けた重要な成果を目指しています。
6つの重点研究領域を中心に、精密デジタルシステムの技術的フロンティアを開拓しています。
量子アルゴリズムのグリッド最適化問題への応用研究。量子アニーリングを活用した電力配分最適化において、従来アルゴリズム比で解探索速度120倍を達成しています。
深層強化学習によるリアルタイムグリッド制御の研究。独自開発のニューラルアーキテクチャにより、電力需給予測精度98.7%を実現。異常検知の誤報率を従来比65%削減。
サブミクロン精度の製造プロセス研究。MEMS技術と先進リソグラフィを組み合わせた次世代センサーチップ製造手法を開発中。2026年度中に量産プロセスへの移行を目指す。
フォトニック回路を用いた高速データ処理技術の研究。光信号処理によるデータ転送速度を電子回路比で10倍向上。グリッドセンシングネットワークへの統合実装を検証中。
環境振動・熱勾配・光エネルギーからの微小電力収集技術の研究。IoTセンサーの自己発電化を実現し、バッテリーレス長期稼働を可能にする革新的電源ソリューションを開発。
ナノメートルスケールでの電子・光学・機械機能の一体集積化研究。3Dナノ集積技術による超小型高機能センサーモジュールの実現を目指し、東大・京大との共同研究を推進中。
当社研究員が発表した代表的な学術論文・研究報告の一覧です。
研究成果を知的財産として積極的に保護し、技術的優位性を確固たるものにしています。
国内外の大学・研究機関と緊密に連携し、基礎研究から応用開発まで幅広い共同研究を実施しています。
最先端の研究設備を整備し、世界最高水準の研究環境を提供しています。